如何進(jìn)行水處理？

衡美水處理為您介紹一項(xiàng)污水處理的專業(yè)知識——二級反滲透+EDI水處理、EDI去離子水設(shè)備的工業(yè)應(yīng)用和市場需求。

（四）EDI的電源

所使用的直流電源應(yīng)在運(yùn)行電壓范圍內(nèi)空調(diào)，并可以提供再生需要的電壓。直流電源的功率應(yīng)滿足EDI電流上限（6A）的要求。直流電源的紋波率不能超過30%。過高的紋波率會使EDI組件在瞬間承受高于表觀有效電流/電壓，造成對組件的破壞。當(dāng)多個(gè)EDI組件共用一個(gè)直流電源時(shí)，每個(gè)EDI電壓/電流應(yīng)實(shí)現(xiàn)獨(dú)立可調(diào)。配有電壓表和電流表。同時(shí)，應(yīng)當(dāng)配備限流裝置。為保護(hù)EDI組件，當(dāng)流經(jīng)EDI組件的水流量低于某一點(diǎn)時(shí)，應(yīng)關(guān)閉電源。

（五）EDI所用儀表

1、壓力表：測定EDI純水、濃水、級水給水壓力和出水壓力。

二級反滲透+EDI水處理。

2、流量計(jì)：測量純水出水、濃水入水、級水入水及濃水補(bǔ)水的流量。

3、電導(dǎo)率儀：測量EDI給水和濃水入水電導(dǎo)率。

4．電阻率儀：測量EDI純水電阻率。

5、流量開關(guān)：如果流入EDI組件的純水、濃水、級水流量過低，流量開關(guān)會促使系統(tǒng)關(guān)閉。

五、純水的保存和給水

經(jīng)過EDI處理后的水即可為成品水，進(jìn)入純水箱保存，為保證水質(zhì)，一般采用氮封的辦法，即從純水箱頂部充入氮?dú)?。給水后，液位電磁閥與PLC配合，當(dāng)純水箱的水位低于水位底線時(shí)，PLC啟動制水程序，整個(gè)系統(tǒng)開始制水，直到純水箱水位達(dá)到水位上限，系統(tǒng)停止制水，如此循環(huán)往復(fù)，始終保持純水箱里有一定的水位。

電鍍用去離子水設(shè)備的特點(diǎn)是產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定，造價(jià)相對較低。去離子水設(shè)備是通過反滲透、離子交換器、EDI等方法去除水中陰陽離子的水處理裝置。去離子水設(shè)備性能穩(wěn)定，大量應(yīng)用于醫(yī)藥，電子，化工，玻璃，渡涂，鍋爐，化驗(yàn)室等行業(yè)。

電鍍用去離子水設(shè)備的工藝流程：

1、采用離子交換方式，其流程如下：

原水→原水加壓泵→砂濾器→活性炭過濾器→保安過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點(diǎn)。

2、采用反滲透方式，其流程如下：

　原水→原水加壓泵→砂濾器→活性炭過濾器→保安過濾器→反滲透→純水箱。

3、采用反滲透加混床方式，其流程如下：

原水→原水加壓泵→砂濾器→活性炭過濾器→保安過濾器→反滲透→純水箱→加壓泵→陰陽離子混合床→保安過濾器→用水點(diǎn)。

六、EDI去離子水設(shè)備的工業(yè)應(yīng)用和市場需求

近幾年EDI去離子在各個(gè)工業(yè)領(lǐng)域都越來越受重視，許多工業(yè)系統(tǒng)開始采用電去離子作為其水處理系統(tǒng)的更新?lián)Q代技術(shù)，如電力工業(yè)、制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、電鍍與金屬表面處理等。

1、電力工業(yè)

據(jù)推算電力行業(yè)水處理單元的操作費(fèi)用約占電力成本的10%，而用電去離子替代離子交換樹脂可以使每處理1000加侖水的成本由11美元降至1.75美元。

2、制藥工業(yè)

雖然藥用水的特點(diǎn)是并不要求很高的去離子程度，但電去離子系統(tǒng)具有同時(shí)去鹽和控制微生物指標(biāo)的特點(diǎn)，因此已有多家企業(yè)采用RO/EDI集成系統(tǒng)。據(jù)稱該類系統(tǒng)性能穩(wěn)定，全流程計(jì)算機(jī)連續(xù)監(jiān)控，全自動操作無人值守。

3、電子工業(yè)

電子工業(yè)對水質(zhì)的要求級高，水電阻率要穩(wěn)定的大于18MΩ，而EDI出水一般在15-17MΩ左右，因此在電子級水的生產(chǎn)過程多采用EDI+拋光樹脂系統(tǒng)，即在EDI之后加離子交換，此工程雖然仍需離子交換，但由于EDI已除去了大部分離子，拋光樹脂幾乎不用再生，因此水處理費(fèi)用仍然很低。

4、電鍍與金屬表面處理

電去離子水設(shè)備可用于電鍍廢水處理可以使水重復(fù)使用并回收重金屬離子。美國已有該類型系統(tǒng)的實(shí)驗(yàn)裝置。

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